伺服電機檢測系統(tǒng)分類：光電式、磁粉式、渦流式、超聲波
伺服系統(tǒng)的分類
由于閉環(huán)伺服系統(tǒng)是反饋掌握，反饋測量裝置精度很高，所以系按調(diào)整理論分類
1，開環(huán)伺服系統(tǒng)開環(huán)伺服系統(tǒng)即無位置反饋統(tǒng)傳動鏈的誤差，環(huán)內(nèi)各元件的誤差以及運動中造成的誤差都可以得的系統(tǒng)，其驅(qū)動元件主要是功率步進電機或液壓脈沖馬達。這兩種驅(qū)到補償，從而大大提高了跟隨精度和定位精度。
2.半閉環(huán)系統(tǒng)動元件的工作原理的實質(zhì)是數(shù)字脈沖到角度位移的變換，它不用位置位置檢測元件不直接安裝在進給坐標的最終運動部件上，而是中問經(jīng)檢測元件實現(xiàn)定位，而是靠驅(qū)動裝置本身，轉過的角度正比與指令脈過機械傳動部件的位置轉換，稱為問接測量。亦即坐標運動的傳動鏈沖的個數(shù)：運動速度由進給脈沖的頻率打算。
有一部分在位置閉環(huán)以外，在環(huán)外的傳動誤差設沒有得到系統(tǒng)的補償，開環(huán)伺服系統(tǒng)的結構簡潔，易于掌握，但精度差，低速不平穩(wěn)，因而這種伺服系統(tǒng)的精度低于閉環(huán)系統(tǒng)。告知扭短小。一般用于輕載負載變化不大或經(jīng)濟型數(shù)控機床上。
3，半閉環(huán)和閉環(huán)系統(tǒng)的掌握結構是全都的，不同點只是閉環(huán)系統(tǒng)環(huán)閉環(huán)伺服系統(tǒng)內(nèi)包括較多的機械傳動部件，傳動誤差均可被補償。理論上精度可以閉環(huán)伺服系統(tǒng)是誤差掌握隨動隨動系統(tǒng)。數(shù)控機床進給系統(tǒng)的達到很高。但由于受機械變形、溫度變化、振動以及其它因素的影響，誤差，是CNC輸出的位置指今和機床工作臺（或刀架）實際位置的差系統(tǒng)穩(wěn)定性難以調(diào)整。此外，機床運行一段時間后，由于機械傳動部值。閉環(huán)系統(tǒng)運動執(zhí)行元件不能反映運動的位置，因此需要有位置檢件的靡損、變形以及其它因素的轉變，筒單使系統(tǒng)穩(wěn)定性轉變，精度測裝置。該裝置測出實際位移量或者實際所處的位置，并將測量值反發(fā)生變化。因此，目前使用半閉環(huán)系統(tǒng)較多。只在具備傳動部件緊密饋給CNC裝置，與指令進行比較，求得誤差，依次構成閉環(huán)位置掌握。
伺服電機在工業(yè)自動化控制中，應用非常廣泛。隨著伺服電機的廣泛應用，對伺服電機檢測系統(tǒng)的要求也越來越高。
目前市場上銷售的伺服電機檢測系統(tǒng)主要有：光電式、磁粉式、渦流式、超聲波等幾種類型，這些類型的檢測系統(tǒng)各有優(yōu)缺點。
光電式檢測系統(tǒng)優(yōu)點：結構簡單；價格；
維護方便缺點：不能在線監(jiān)測和診斷故障原因磁粉式和渦流式的優(yōu)點在于可以在線監(jiān)測和診斷故障原因分析及對策。
1.由于磁力線分布不均勻以及鐵心飽和等因素的影響，導致磁性元件的漏磁場存在差異性。
2.由于磁滯現(xiàn)象的存在使得測量值與真實值的偏差較大。
3.傳感器線性誤差過大。
4.傳感器安裝位置不當造成測量誤差。
5.被測信號頻率過高或過低。
6.被測信號的幅度過大。
7.被測信號的電平過小。
8.傳感器的靈敏度太高。
9.環(huán)境溫度過高。
10.周圍有較強的電磁干擾。
11.電源電壓波動。
12.電源功率不足。
13.供電線路過長。
14.負載阻抗太大。
15.輸出電流過大。
16.輸出波形失真。
17.輸入端短路。
18.電路板損壞。
19.內(nèi)部連線錯誤。
20.外部干擾。
21.外界環(huán)境變化。
22.其他原因引起的誤動作 。
解決方法：
1.將傳感器的位置固定好。
2.調(diào)整傳感器的角度。
3.更換合適的探頭。
4.提高探頭的分辨率。
5.增大探頭的通斷比。
6.減小探頭的阻值。
7.增加放大倍數(shù)。
8.減少噪聲。
9.降低噪聲。
10.采用隔離變壓器。
11.采用屏蔽線。
12.改變接線方法 。
電聲學原理： 聲壓的大小由兩個因素決定：
一是聲波傳播的速度（v）；二是聲波的頻率（f）。當聲音通過空氣時會產(chǎn)生壓力變化而形成聲能的變化即"壓強差"。如果這個壓力差足夠大的話就可以推動物體運動起來-這就是我們常說的聲音的機械效應。
聲音的機械效應可以用兩種方法來實現(xiàn)：
1是使聲音發(fā)生器產(chǎn)生一個周期性的振蕩；
2是使發(fā)聲體振動起來并發(fā)出聲音來。
這兩種方法的實現(xiàn)都需要一定的裝置作為基礎-換句話說是需要一定形式的"介質(zhì)"。
